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主要用途
主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研
制和生產(chǎn)。
由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)先進(jìn)，找平力小、使本機(jī)適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片等的曝光。
工作方式
本機(jī)為一次性光刻曝光
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復(fù)制
C-43型國產(chǎn)光刻機(jī) 高精度光刻機(jī)生產(chǎn)廠家 現(xiàn)貨
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C-43型國產(chǎn)光刻機(jī) 高精度光刻機(jī)生產(chǎn)廠家 現(xiàn)貨
詳細(xì)信息 主要用途 主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研 制和生產(chǎn)。 由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)先進(jìn)，找平力小、使本機(jī)適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片等的曝光。 工作方式 本機(jī)為一次性光刻曝光 搜索 復(fù)制 |