技術(shù)要求

公 差 范 圍

刻畫(huà)小線寬

1.5um

刻畫(huà)大面積

180mm

刻畫(huà)圖案誤差

±0.5um（根據(jù)刻畫(huà)面積而定）

刻畫(huà)深度

0.05um-10um（根據(jù)圖案寬度而定）

刻畫(huà)深度誤差

±0.001um

材 料

硅、鍺、硒化鋅、硫化鋅等紅外材料

       我們可以根據(jù)客戶(hù)要求，在紅外材料拋光基片表面加工碼盤(pán),相位光柵,投射光柵，反射光柵、分劃版,分辨率版等產(chǎn)品