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C-43A型9寸光刻機 成都精密光刻機廠家

單價： ￥85000.00    元 / 臺

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累計評價
品牌 : 興林真空
銷量 : 累計出售 0 臺
發(fā)貨地 : 四川省-成都市-成華區(qū)
有效期至 : 長期有效
數(shù)量 : 減少 增加臺 庫存9999臺
更新 : 2022-07-12
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公司基本資料信息
 
主要用途
 
主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、光電子器件、聲表面波器件、薄膜電路、電力電子器件的研制和生產(chǎn)。
 
由于本機有特殊的找平機構(gòu)，使本機不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片的曝光，而且也適用非圓形基片和小型基片的曝光。
 
工作方式
 
本機為一次性光刻曝光
 
主要技術(shù)指標
 
1、配置一件承片臺（承片臺具體尺寸可根據(jù)用戶需求制造）
 
2、曝光頭（采用高均勻性多點光源曝光頭）
 
＊出射光斑≤230mm；350W（高壓直流汞燈）
 
＊光的不均勻性在φ230mm范圍內(nèi)≤±8%；
 
＊實現(xiàn)真空密著條件下曝光。
 
＊光的強度可通過X、Y、Z進行調(diào)節(jié)，曝光時間，通過0.1~999.9秒時間繼電器設(shè)定；
 
＊汞燈位置調(diào)節(jié)可通過精密的x、y、z調(diào)節(jié)裝置調(diào)節(jié)，調(diào)節(jié)量為x向±5毫米、y向±5毫米、z向±5毫米；
 
＊具有風扇冷卻裝置。
 
3、分辨率≥2μm 。
 
4、具備真空吸片功能。
 
5、具有真空密著和反吹氣的功能，通過調(diào)節(jié)密著真空的大小可以實現(xiàn)硬接觸曝光（密著真空≤-0.05 Mpa）、軟接觸曝光(密著真空在-0.05Mpa～-0.02Mpa之間)和微力接觸曝光（密著真空≥-0.02Mpa）。