| 公司基本資料信息
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主要用途：
主要用于中小規(guī)模集成電路、半導體元器件、聲表面波器件的研
制和生產(chǎn)。
由于本機找平機構先進，找平力小、使本機適合硅片、玻璃片、陶瓷片、銅片、不銹鋼片、寶石片等的曝光。
（1） 這是一臺雙面對準單面曝光的光刻機；
（2） 這臺機器又能完成普通光刻機的任何工作；
（3） 同時又是一臺檢查雙面對準精度的檢查儀。
使用、維護和保養(yǎng)：
1、每日檢查：這樣做，可以使曝光機長期處于良好的工作狀態(tài)。
（1） 測量成像面照度，調(diào)整光強到所需照度，并設定好所需時間。
（2） 清掃板架和承片臺，使之無油、無塵、無硅渣等。
（3） 注意觀察系統(tǒng)真空表所顯示的真空度，是否≤-0.07Mpa，否則應檢查管路系統(tǒng)，查明漏氣原因，并設法排除。
（4） 查看進氣源是否≥0.4Mpa，并將氣動雙聯(lián)件輸出調(diào)到0.3Mpa 。
（5） 本機不需水源，進電源為交流220V，使用維護簡單。
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臺 庫存9999臺 
